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第一个笔记-蒙版的使用
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MASK遮罩：使素材被遮罩框起来的部分变得可见，未被框起的部分不可见。当两张素材存在重叠关系时，对上方素材使用遮罩，可使上方素材被遮罩框起来的部分显露，下方素材未被框起的部分显露。
1、通过将关键帧插值-空间插值的贝塞尔曲线改为线性可以消除反弹效果。 2、按住Ctrl+左键可以降低参数调节速率。 3、如何消除黑色底光线效果的黑底？右键单击光线素材的父级—列数-模式，再右键模式框，将“正常”改为“屏幕”。还可以进一步调节光线效果的透明度以改变光线亮度。
我的笔记
时间线上的独奏，可以单独查看一个图层。锁定可以避免更改
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为什么 我按住键盘上的方向键 改变不了 图形的变化呢， 我按住方向键 他只会左右上下移动 不会像老师你那样 使多边形变化多样
第一章 AE 软件技术入门提高
1--工作界面与软件设置
2--素材导入与基本操作
3--AE 合成设置与预设解析
4--图层属性与关键帧动画
